Epson participara de la semana de la moda en Nueva York

epsonweekEste show de moda destaca la innovadora impresión textil digital. El diseñador Matías Hernán representará a Chile en las pasarelas.

Epson anunció oficialmente que presentará la segunda edición del evento anual “Digital Couture” el 9 de febrero anticipando el comienzo de la Semana de la Moda de Nueva York. El punto de partida, estará dado por la presentación de las colecciones de 11 diseñadores norteamericanos y latinoamericanos que fueron creadas con las avanzadas soluciones de impresión textil de Epson. Este año, el evento se desarrollará en base a la temática “Armonía y Paz a través de la Moda”.

El evento “Epson Digital Couture” es la oportunidad para mostrar la libertad, eficiencia y capacidad de diseño que las tecnologías de impresión digital de Epson ofrecen para la industria de la moda y textil.

En la ocasión, Epson también exhibirá una selección de muestras textiles de alta calidad durante el evento. Epson está hoy en una posición de privilegio para acelerar aun más el crecimiento del sector de impresión textil en todo el mundo.

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“La tecnología digital ha cambiado cada industria que ha tocado y ahora está revolucionando la industria de la moda”, comentó Keith Kratzberg, Vicepresidente Ejecutivo de Epson America. “El evento Epson Digital Couture mostrará el increíble potencial creativo y la impresionante reproducción de colores que los diseñadores pueden lograr utilizando la tecnología de impresión textil de Epson. Actualmente, se trata de un mercado de 7.500 millones de dólares y se espera que crecerá más de 34 por ciento en todo el mundo, lo cual es una gran oportunidad para Epson y sus empresas asociadas”, agregó.  

Las tecnologías de sublimación de tinta e impresión directa en textiles de Epson ofrecen ilimitadas posibilidades de diseños en toda la industria de la moda y textil. El resultado final son estampados originales de la más alta calidad exclusivos de cada diseñador en telas que pueden definir y transmitir su propio estilo. La segunda edición del evento anual Epson Digital Couture mostrará las capacidades de diseño a través de variadas colecciones de diseñadores de Norteamérica y Latinoamérica:

  • Chloe Trujillo de Los Ángeles, California
  • Cristina Ruales de Brooklyn, Nueva York
  • Fabrizzio Berrocal de Costa Rica
  • GM, Gustavo Moscoso de Ecuador
  • Kaleidoscopic, María de Lourdes Ramírez y Isabel Navarro Landa de México
  • LENERD, Felipe Santamaría Luque de Colombia
  • Matías Hernán, de Santiago de Chile
  • Ossira, Agostina Orlandi y Ludmila Osikovsky de Argentina
  • Pionier, Janet Ríos y Carmen Artica de Perú
  • Santika, Danny Santiago de Miami, Florida
  • Tigresse, Fabio Yukio de Brasil

“Por segundo año consecutivo, el evento de moda Digital Couture muestra la forma en que los diseñadores de moda de hoy aprovechan las innovadoras tecnologías de impresión para hacer realidad sus visiones creativas”, declaró Agustin Chacon, Vicepresidente de Maketing Internacional de Epson América. “Las tecnologías de impresión textil digital de Epson brindan a los diseñadores de moda la flexibilidad que necesitan para realizar diseños ultra creativos”.

Autor

  • Francisco Carrasco, periodista chileno especializado en tecnologías de la Información desde hace más de 15 años. Trabajó como periodista y editor en las revistas especializadas ComputerWorld y PC World Chile de la editorial americana IDG durante 6 años y fue editor para Latinoamérica de CIO America Latina, y PC World en Español, y mantiene su blog hace 10 años www.it-review.cl.

    Además en los últimos años ha cumplido roles de editor y asesor de contenidos para varias empresas tecnológicas multinacionales tanto del área del software como del hardware. Así también es colaborador de tecnología por cerca de 2 años de Ediciones Especiales del Diario La Tercera desde 2010-2012 y posteriormente colaboro en Ediciones Especiales de El Mercurio y Chile Tecnológico.