El diseñador chileno Matías Hernán fue uno de los diseñadores de Latinoamérica que acaparó toda la atención en el “Digital Couture Project – Epson New York Fashion Week 2016”.
Matías Hernán fue la carta de Epson Chile para participar en el “Digital Couture Project” de Epson, en Nueva York previo a la semana de la moda que cada año se realiza en dicha ciudad.
En la oportunidad, once diseñadores de Latinoamérica y EE.UU. desfilaron prendas en torno al concepto de “Armonía y Paz a través de la Moda”. Una especial connotación tecnológica tuvo el evento ya que todas las creaciones fueron plasmadas en la impresora de sublimación Epson Sure Color Serie F.
El desafío resultó particularmente interesante para los modistos. Las tecnologías de sublimación de tinta e impresión directa en textiles de Epson ofrecen ilimitadas posibilidades de diseños en toda la industria de la moda y textil. El resultado final demuestro que cada diseñador logró definir y transmitir su propio estilo.
“Intenté mezclar mi estética futurista con los recursos de Epson para alcanzar todas las texturas y colores que existen”, sostuvo el diseñador chileno Matías Hernán quien participó por primera vez en el evento.
Lo que más destacaron los diseñadores fueron las infinitas posibilidades, la libertad de diseño y la eficiencia que otorgan las impresoras de textiles Epson SureColor Serie F.
La reconocida diseñadora y pareja del bajista Robert Trujillo, de la banda de rock Metallica, Chloe Trujuillo, de Los Ángeles, EE.UU., resumió el pensar de los diferentes participantes: “Un gran descubrimiento (impresoras de sublimación Epson)…, con esta tecnología todo es posible. Me permite desarrollar mi línea con libertad, con la confianza de que el arte que ahí plasmo será tan vibrante y detallado como debiese ser. Es creatividad sin barreras”.
Por su parte, Matías Hernán destacó el uso de la plataforma sosteniendo que “tener esta plataforma es bien novedoso, porque es algo asociado a la tecnología, es moda que va a nuevas generaciones y enfocado en nuevas herramientas”.
El representante de Chile en el “Epson Digital Couture Project” fue seleccionado de un grupo de destacados diseñadores nacionales, quienes compitieron por un cupo para mostrar sus diseños en las pasarelas de Nueva York.
